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温室越冬黄瓜栽培应注意

株行配置不合理。这种方式实际上是早熟栽培模式,行距小、密度大、光照条件恶化,植株很难发育健壮,降低了植株的抗逆性。正确的株行距配置应是平均行距不少于90厘米,株距30厘米,亩栽2300株左右。目前多数采用65—70厘米小行距,亩栽3800—4000株的高密度。越冬茬栽培通常是靠发挥个体增产潜力,来实现稳产、高产,需要合理稀植

目前达到标准要求的温室不多。按越冬茬的温室黄瓜对温度的要求,其极端最低气温不能较长时间低于8℃,最好不低于9.5℃。严冬时黄瓜生长异常,都与低温冷害有关。温室温度不够。温室黄瓜嫁接换根不能改变茎叶喜温的特性

严冬时节长期不浇水、选用不耐低温的品种、防治病害盲目用药都会影响越冬茬的黄瓜生产。管理上的欠缺

在采光和保温性能良好的冬型日光温室里,由于连年种植黄瓜,土壤积盐浓度危害、连作障害、农药药害和根结线虫危害,已严重阻碍生产的发展。温室“四害”泛滥

忽视了护根与救根。越冬茬黄瓜生长期间,有两个花打顶时期,分别在2月初和3月中旬。出现这种情况实际上是根系受伤的结果,前者是受1月份持续低温的影响,而引起的寒根和沤根,后者是根系的自然衰老。如果此前能主动利用生根剂促进新根发生,就会减少黄瓜生长停滞所带来的损失

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